Mặt nạ toàn phần Unix 5000 kèm phin lọc tổng hợp 521 - Sorbent (Nga)

- Chất liệu: cao su
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm phin lọc tổng hợp 531

- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE

- Chất liệu: Silicon
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm hai hộp lọc 521

- Lọc các loại hợp chất hơi và khí hơi hữu cơ, khí vô cơ và khí axit ở nhiệt độ cao trên 65 độ C. 

- Chất liệu: Silicone

- Mặt nạ chụp toàn phần có kèm hai hộp lọc khí độc tổng hợp 531

- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE

- Chất liệu : Màng Poly công nghệ mới, nhựa và silicon cao cấp
- Mặt nạ toàn phần che nửa đầu dùng kết hợp 2 hộp lọc, giúp bảo vệ hô hấp khỏi các chất độc hại khi làm việc.
- Dùng trong môi trường hóa chất độc hại, chống bụi, tia lửa và hơi hữu cơ, vô cơ. Sử dụng với các loại hộp lọc 6001 ~ 6009. 
- Đạt tiêu chuẩn EN 136:1998 

- Chất liệu: Silicon
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm hai hộp lọc 502

- Lọc các loại hợp chất hơi và khí hơi hữu cơ, khí vô cơ và khí axit ở nhiệt độ cao trên 65 độ C. 

- Chất liệu: cao su
- Mặt nạ chụp toàn phần, có kèm theo phin lọc hữu cơ 502

- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2, EN 14387, CE

- Chất liệu: Cao su

- Kết hợp với phin lọc để: lọc bụi, lọc khí độc hữu cơ, hơi axit hóa chất......

- Unix 6100 làm việc tốt trong: -40°C - 40 °C và độ ẩm tương đối lên đến 98%.

- Tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003